1.
Conference Proceedings |
1. Performance of immersion lithography for 45-nm-node CMOS and ultra-high density SRAM with 0.25um2
S. Mimotogi ; F. Uesawa ; M. Tominaga ; H. Fujise ; K. Sho ; M. Katsumata ; H. Hane ; A. Ikegami ; S. Nagahara ; T. Ema ; M. Asano ; H. Kanai ; T. Kimura ; M. Iwai
|
|||||||
2.
Conference Proceedings |
T. Ema ; K. Sho ; H. Yonemitsu ; Y. Seino ; H. Fujise
|