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Silicide thin films - fabrication, properties, and applications : Symposium held November 27-30, 1995, Boston, Massachusetts, USA

責任表示:
editors, Raymond T. Tung ... [et al.]
シリーズ名:
Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号:
402
出版情報:
Pittsburgh: MRS - Materials Research Society, 1996
ISSN:
02729172
ISBN:
9781558993051 [1558993053]
請求記号:
M23500/402
資料種別:
国際会議録
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