1.

国際会議録
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1. Impact of Changing Climate and Emissions on Surface Ozone Distributions and Evolution
H. Tanimoto ; H. Mukai ; T. Ohara ; I. Uno
出版情報: Regional climate variability and its impacts in the Mediterranean area.  pp.113-128,  2007.  Dordrecht.  Springer
シリーズ名: NATO science series. Series 4, Earth and environmental sciences
シリーズ巻号: 79
2.

国際会議録
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2. Mask quality assurance in cleaning for haze elimination using flexible mask specifications
K. Otsubo ; S. Yamaguchi ; Y. Arisawa ; H. Mukai ; T. Kotani ; H. Mashita ; H. Hashimoto ; T. Kamo ; T. Tsutsui ; O. Ikenaga
出版情報: Photomask and next-generation lithography mask technology XIV.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6607
3.

国際会議録
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3. A study of CD budget in spacer patterning technology
H. Mukai ; E. Shiobara ; S. Takahashi ; K. Hashimoto
出版情報: Optical Microlithography XXI.  1  pp.692406-1-692406-8,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6924
4.

国際会議録
国際会議録
4. Tool-induced hotspot fixing frow for high volume products
H. Mashita ; T. Kotani ; F. Nakajima ; H. Mukai ; K. Sato
出版情報: Photomask and next-generation lithography mask technology XV.  2  pp.70283I-1-70283I-7,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7028
5.

国際会議録
国際会議録
5. Mask defect printability in the spacer patterning process
S. Miyoshi ; S. Yamaguchi ; T. Hirano ; H. Mashita ; H. Mukai
出版情報: Photomask technology 2008.  1  pp.71220P-1-71220P-8,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7122
6.

国際会議録
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6. A study of mask specification in spacer patterning technology
H. Mukai ; Y. Kobayashi ; S. Yamaguchi ; K. Kawano ; K. Hashimoto
出版情報: Photomask and next-generation lithography mask technology XV.  1  pp.702812-1-702812-8,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7028
7.

国際会議録
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7. Mask specification guidelines in spacer patterning technology
K. Hashimoto ; H. Mukai ; S. Miyoshi ; S. Yamaguchi ; H. Mashita
出版情報: Lithography Asia 2008.  2  pp.714022-1-714022-10,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7140
8.

国際会議録
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8. Accuracy of mask pattern contour extraction with fine-pixel SEM images
S. Yamaguchi ; E. Yamanaka ; H. Mukai ; T. Kotani ; H. Mashita
出版情報: Photomask technology 2007.  2  pp.673036-1-673036-12,  2007.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6730