1.

国際会議録
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1. In Situ Monitoring of Thin Film Reactions During Rapid Thermal Annealing: Nickel Silicide Formation
Lavoje, C. ; Purtell, R. ; Cola, C. ; Detavernier, C. ; Desjardins, P. ; Jordan-Sweet, J. ; Cabral, C., Jr. ; d'Heurle, F.M. ; Harper., J.M.E.
出版情報: Rapid thermal and other short-time processing technologies III : proceedings of the international symposium.  pp.455-468,  2002.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2002-11
2.

国際会議録
国際会議録
2. 70 Reactive Diffusion in the Ni-Si System: Influence of Ni Thickness on the Phase Formation Sequence
Coia, C. ; Lavoie, C. ; d'Heurle, F. M. ; Desjardins, P. ; Detavernier, C. ; Kellock, A. J. (Invited Paper)
出版情報: Advanced gate stack, source/drain and channel engineering for Si-based CMOS, new materials, processes, and equipment : proceedings of the international symposium.  pp.585-596,  2005.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2005-05
3.

国際会議録
国際会議録
3. The Influence of Ti Capping Layers on CoSi2 Formation in the Presence of Interfacial Oxide
Detavernier, C. ; Donaton, R. A. ; Maex, K. ; Jin, S. ; Bender, H. ; Meirhaeghe, R. Van ; Cardon, F.
出版情報: Advanced interconnects and contacts : symposium held April 5-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A..  pp.139-,  1999.  Warrendale, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 564
4.

国際会議録
国際会議録
4. A BEEM Study of PtSi Schottky Contacts on Ion-Milled Si
Ru, G-P. ; Detavernier, C. ; Donaton, R. A. ; Blondeel, A. ; Clauws, P. ; Meirhaeghe, R. L. Van ; Cardon, F. ; Maex, K. ; Qu, X-P. ; Zhu, S-Y. ; Li, B-Z.
出版情報: Advanced interconnects and contacts : symposium held April 5-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A..  pp.201-,  1999.  Warrendale, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 564
5.

国際会議録
国際会議録
5. Formation and Characterization of SPE Grown Ultra-Thin Cobalt Disilicide Film
Qu, X-P. ; Ru, G-P. ; Li, B-Z. ; Detavernier, C. ; Meirhaeghe, R. L. Van ; Cardon, F.
出版情報: Advanced interconnects and contacts : symposium held April 5-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A..  pp.157-,  1999.  Warrendale, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 564
6.

国際会議録
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6. Texture in Thin Films
Detavernier, C. ; Lavoie, C.
出版情報: Textures of materials : ICOTOM 14 : Proceedings of the 14th International Conference on Textures of Materials, held in Leuven, Belgium, July 11-15, 2005.  pp.1333-1342,  2005.  Uetikon-Zuerich, Switzerland.  Trans Tech Publications
シリーズ名: Materials science forum
シリーズ巻号: 495-497(2)
7.

国際会議録
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7. Room Temperature Grain Growth in Sputtered Cu Films
Deduytsche, D. ; Detavernier, C. ; Debaerdemaeker, J. ; Van Meirhaeghe, R.L. ; Dauwe, C. ; Kuan, T.S.
出版情報: Morphological and compositional evolution of thin films : symposium held December 2-5, 2002, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.207-212,  2003.  Warrendale, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 749
8.

国際会議録
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8. A Study On (CO1-xNIxSI2) Schottky Contacts On N-SI(100) Substrates
Qu, Xin-Ping ; Detavernier, C. ; Van Meirhaeghe, R.L. ; Cardon, F. ; Lauwers, A. ; Maex, K. ; Li, Bing-Zong
出版情報: Semiconductor technology (ISTC 2001) : proceedings of the 1st International Conference on Semiconductor Technology.  pp.540-548,  2001.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2001-17
9.

国際会議録
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9. CoSi2 Formation Using a Ti Capping Layer - The Influence of Processing Conditions on CoSi2 Nucleation
Detavernier, C. ; Meirhaeghe, R.L. Van ; Maex, K.
出版情報: Gate stack and silicide issues in silicon processing II : symposium held April 17-19, 2001, San Francisco, California, U.S.A..  2002.  Warrendale, PA.  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 670
10.

国際会議録
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10. Silicide Formation for Ni and Pd Bilayers on Si(100) Substrates
Qu, Xin-Ping ; Detavernier, C. ; Meirhaeghe, R.L. Van ; Cardon, F.
出版情報: Gate stack and silicide issues in silicon processing II : symposium held April 17-19, 2001, San Francisco, California, U.S.A..  2002.  Warrendale, PA.  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 670