1.

国際会議録
国際会議録
1. Transient Enhanced Diffusion and Ostwald Ripening of Ion-Implantation Generated Defects in Silicon
Cowern, N.E.B. ; Mannino, G. ; Roozeboom, F. ; Stalk, P.A. ; Huizing, H.G.A. ; van Berkum, J.G.M ; Toan, N.N. ; Woerlee, P.H. ; Cristiano, F. ; Claverie, A.
出版情報: Advances in rapid thermal processing : proceedings of the symposium.  pp.125-132,  1999.  Pennington, N. J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-10
2.

国際会議録
国際会議録
2. Role of Silicon and Boron Interstitial Clusters in Transient Enhanced Diffusion
Cowern, N.E.B. ; Mannino, G. ; Roozeboom, F. ; van Berkum, J.G.M ; Colombeau, B. ; Claverie, A.
出版情報: Rapid thermal and other short-time processing technologies : proceedings of the international symposium.  pp.61-72,  2000.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2000-9