1.

国際会議録
国際会議録
1. GROWTH TECHNOLOGY FOR 200mm ANTIMONY HEAVILY DOPED SILICON SINGLE CRYSTALS
Zhou, Q. ; Qin, F. ; Zhou, J. ; Fang, F. ; Wang, J. ; Tu, H.
出版情報: Semiconductor silicon 2002 : proceedings of the ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology.  pp.307-310,  2002.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2002-2
2.

国際会議録
国際会議録
2. GROWTH TECHNOLOGY FOR 200mm ANTIMONY HEAVILY DOPED SILICON SINGLE CRYSTALS
Zhou, Q. ; Qin, F. ; Zhou, J. ; Fang, F. ; Wang, J. ; Tu, H.
出版情報: Semiconductor silicon 2002 : proceedings of the ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology.  pp.307-310,  2002.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2002-2