1.

国際会議録
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1. A novel focus monitoring method using double side chrome mask
Cha, B.-C. ; Kim, Y.-H. ; Yoon, H.-S. ; Han, W.-S.
出版情報: Optical microlithography XVIII : 1-4 March, 2005, San Jose, California, USA.  pp.303-314,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5754
2.

国際会議録
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2. Monitoring system of CD error analysis for the 90-nm node mask manufacturing [5853-11]
Yu, S.-Y. ; Kim, S.-H. ; Cha, B.-C. ; Kim, Y.-H. ; Choi, S.-W. ; Yoon, H.-S. ; Han, W.-S.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XII.  pp.83-89,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5853
3.

国際会議録
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3. Identification of defect source to control reticle defect density for CAR and dry etching in the photomask process
Cho, S.-Y. ; Ahn, W.-S. ; Cho, W.-I. ; Sung, M.-G. ; Kim, Y.-H. ; Choi, S.-W. ; Yoon, H.-S. ; Sohn, J.-M.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X.  pp.107-117,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5130
4.

国際会議録
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4. Study of characteristics and control of haze contamination induced by photochemical reaction
Han, S.-J. ; Yu, S.-Y. ; Sung, M.-G. ; Kim, Y.-H. ; Yoon, H.-S. ; Sohn, J.-M.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X.  pp.563-567,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5130
5.

国際会議録
国際会議録
5. Analytical approach to X-phenomenon in alternating phase-shifting masks
Park, J.R. ; Kim, S.-H. ; Lee, H.-J. ; Jang, I.-Y. ; Choi, Y.-H. ; Yang, S.-H. ; Lee, Y.-H. ; Kim, Y.-H. ; Choi, S.-W. ; Yoon, H.-S. ; Sohn, J.-M.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part Two  pp.1209-1216,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889
6.

国際会議録
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6. Fogging effect consideration in mask process at 50-KeV e-beam systems
Yang, S.-H. ; Choi, Y.-H. ; Park, J.-R. ; Kim, Y.-H. ; Choi, S.-W. ; Yoon, H.-S. ; Sohn, J.-M.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part Two  pp.786-791,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889