1.

国際会議録
国際会議録
1. CD and profile metrology of embedded phase shift masks using scatterometry [6281-46]
Lee, M. K. ; Yedur, S. ; Hetzer, D. ; Tavassoli, M. ; Baik, K.
出版情報: EMLC 2006 : 22nd European Mask and Lithography Conference : 23-26 January 2006, Dresden, Germany.  pp.62810Z-,  2006.  Bellingham, Wash.,.  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6281
2.

国際会議録
国際会議録
2. CD metrology of binary and phase shift masks using scatterometry [5992-55]
Lee, K. M. ; Yedur, S. ; Tabet, M. ; Tavassoli, M.
出版情報: 25th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.59921I-,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5992
3.

国際会議録
国際会議録
3. CD-etch depth measurement from advanced phase-shift masks and wafers using optical scatterometry [6152-63]
Lee, K. M. ; Yedur, S. ; Henrichs, S. ; Tavassoli, M.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XX.  pp.61521P-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6152
4.

国際会議録
国際会議録
4. Contact hole CD and profile metrology of binary and phase-shift masks: effect of modeling strategies in application of scafferometery [6349-22]
Lee, K. ; Yedur, S. ; Tavassoli, M. ; Baik, K. ; Tabet, M.
出版情報: Photomask Technology 2006.  pp.63490M-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6349