1.

国際会議録
国際会議録
1. CD and profile metrology of embedded phase shift masks using scatterometry [6281-46]
Lee, M. K. ; Yedur, S. ; Hetzer, D. ; Tavassoli, M. ; Baik, K.
出版情報: EMLC 2006 : 22nd European Mask and Lithography Conference : 23-26 January 2006, Dresden, Germany.  pp.62810Z-,  2006.  Bellingham, Wash.,.  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6281
2.

国際会議録
国際会議録
2. Scatterometry based CD and profile metrology of chrome-less masks using optical digital profilometry [6283-111]
Lee, K. ; Yedur, S. ; Cheng, W. ; Tovassoli, M. ; Baik, K.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII.  pp.628313-628313,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6283
3.

国際会議録
国際会議録
3. Contact hole CD and profile metrology of binary and phase-shift masks: effect of modeling strategies in application of scafferometery [6349-22]
Lee, K. ; Yedur, S. ; Tavassoli, M. ; Baik, K. ; Tabet, M.
出版情報: Photomask Technology 2006.  pp.63490M-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6349