1.

国際会議録
国際会議録
1. Optical metrology of binary arrays of holes in semiconductor media using microspot spectroscopic ellipsometry [5965-66]
Antos, R. ; Ohlidal, I. ; Mistrik, J. ; Yamaguchi, T. ; Visnovsky, S. ; Yamaguchi, S. ; Horie, M.
出版情報: Optical fabrication, testing and metrology II : 13-15 September 2005, Jena, Germany.  pp.59652B-,  2005.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5965
2.

国際会議録
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2. Spectral ellipsometry of binary optic gratings
Pistora, J. ; Yamaguchi, T. ; Vlcek, J. ; Mistrik, J. ; Horie, M. ; Smatko, V. ; Kovacova, E. ; Postava, K. ; Aoyama, M.
出版情報: 13th Polish-Czech-Slovak conference on wave and quantum aspects of contemporary optics : 9-13 September 2002, Krzyżowa. Poland.  pp.415-422,  2003.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5259
3.

国際会議録
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3. Airy-like internal reflection series applied in scatterometry and simulations of gratings [5858-35]
Antos, R. ; Mistrik, J. ; Yamaguchi, T. ; Horie, M. ; Visnovsky, S.
出版情報: Nano- and Micro-Metrology.  pp.58580Y-,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5858
4.

国際会議録
国際会議録
4. Measurement of the dielectric function spectra of low dielectric constant using the spectroscopic ellipsometry
Horie, M. ; Postava, K. ; Yamaguchi, T. ; Akashika, K. ; Hayashi, H. ; Kitamura, F.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XVII.  2  pp.803-809,  2003.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5038
5.

国際会議録
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5. Design of an integrated aerial image sensor
Antos, R. ; Veis, M. ; Liskova, E. ; Aoyama, M. ; Hamrle, J. ; Kimura, T. ; Gustafik, P. ; Horie, M. ; Mistrik, J. ; Yamaguchi, T. ; Visnovsky, S. ; Okamoto, N.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XIX.  pp.392-403,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5752