1.

国際会議録
国際会議録
1. Improvement of front-end process overlay in 60nm DRAM
Y. Hwang ; W. Ma ; E. Kang ; C. Lim ; S. Moon ; S. An ; K. Rhe
出版情報: Metrology, inspection, and process control for microlithography XXI.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6518
2.

国際会議録
国際会議録
2. Hardware, materials, and parameters optimization for improvement of immersion overlay
W. Ma ; Y. Hwang ; E. Kang ; S. Park ; J. Kang ; C. Lim ; S. Moon
出版情報: Metrology, inspection, and process control for microlithography XXI.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6518
3.

国際会議録
国際会議録
3. Issues and challenges of double patterning lithography in DRAM
S. Kim ; S. Koo ; J. Choi ; Y. Hwang ; J. Park ; E. Kang ; C. Lim ; S. Moon ; J. Kim
出版情報: Optical microlithography XX.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6520