1.

国際会議録
国際会議録
1. Thermal Stability Studies on 1,3,5,7-Tetramethylcyclotetrasiloxane(TMCTS): A Low -K CVD Precursor
Xu, C. ; Borovik, A.S. ; Wang, Z. ; Arno, J. ; Baum, T.H.
出版情報: Silicon materials - processing characterization and reliability : symposium held April 1-5, 2002, San Francisco, California, U.S.A..  pp.593-598,  2002.  Warrendale.  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 716
2.

国際会議録
国際会議録
2. High Purity Silicon Amido Precursors For Low Temperature Cvd Of High k Gate Silicates
Borovik, A.S. ; Xu, C. ; Hendrix, B.C. ; Roeder, J.F. ; Baum, T.H.
出版情報: Silicon materials - processing characterization and reliability : symposium held April 1-5, 2002, San Francisco, California, U.S.A..  pp.113-118,  2002.  Warrendale.  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 716
3.

国際会議録
国際会議録
3. Comparison Of MOCVD Precursors For Hf1-xSixO2 Gate Dielectric Deposition
Hendrix, B.C. ; Borovik, A.S. ; Wang, Z. ; Xu, C. ; Roeder, J.F. ; Baum, T.H. ; Bevan, M.J. ; Visokay, M.R. ; Chambers, J.J. ; Rotondaro, A.L.P. ; Bu, H. ; Colombo, L.
出版情報: Silicon materials - processing characterization and reliability : symposium held April 1-5, 2002, San Francisco, California, U.S.A..  pp.273-278,  2002.  Warrendale.  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 716
4.

国際会議録
国際会議録
4. Chemical Routes to Improved Mechanical Properties of PECVD Low-k Thin Films
Bilodeau, S.M. ; Borovik, A.S. ; Ebbing, A.A. ; Vestyck, D.J. ; Xu, C. ; Roeder, J.F. ; Baum, T.H.
出版情報: Materials, technology and reliability for advanced interconnects and low-k dielectrics - 2004 : symposium held April 13-15, 2004, San Francisco, California, U.S.A..  pp.109-116,  2004.  Warrendale.  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 812