1.

国際会議録
国際会議録
1. Selective Etching of Wide-Bandgap Nitrides
Shul, R. J. ; Willison, C. G. ; Bridges, M. M. ; Han, J. ; Lee, J. W. ; Pearton, S. J. ; Abernathy, C. R. ; MacKenzie, J. D. ; Donovan, S. M.
出版情報: Power semiconductor materials and devices : symposium held December 1-4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.155-,  1998.  Warrendale, Penn..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 483
2.

国際会議録
国際会議録
2. In Situ Monitoring of Etch Byproducts During Reactive Ion Beam Etching of GaAs in Chlorine/Argon
Lee, J. W. ; Pearton, S. J. ; Abernathy, C. R. ; Vawter, G. A. ; Shul, R. J. ; Bridges, M. M. ; Willison, C. G.
出版情報: Power semiconductor materials and devices : symposium held December 1-4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.191-,  1998.  Warrendale, Penn..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 483
3.

国際会議録
国際会議録
3. Comparison of Dry-Etch Techniques for GaN, InN, and AlN
Shul, R. J. ; Vawter, G. A. ; Willison, C. G. ; Bridges, M. M. ; Lee, J. W. ; Pearton, S. J. ; Abernathy, C. R.
出版情報: Power semiconductor materials and devices : symposium held December 1-4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.103-,  1998.  Warrendale, Penn..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 483
4.

国際会議録
国際会議録
4. Group-III Nitride Etch Selectivity in BCl3/Cl2 ICP Plasmas
Shul, R. J. ; Zhang, L. ; Willison, C. G. ; Han, J. ; Pearton, S. J. ; Hong, J. ; Abernathy, C. R. ; Lester, L. F.
出版情報: GaN and related alloys : symposium held November 30-December 4, 1998, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.G8.1.1.-,  1999.  Warrendale, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 537