1.

国際会議録
国際会議録
1. Deposition of High Quality SiO2 Films Using TEOS by ECR Plasma
Sano, K. ; Tamamaki, H. ; Nomura, M. ; Wickramanayaka, S. ; Nakanishi, Y. ; Hatanaka, Y.
出版情報: Ion-solid interactions for materials modification and processing : symposium held November 27-December 1, 1995, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.539-,  1996.  Pittsburgh.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 396
2.

国際会議録
国際会議録
2. Deposition of Thin SiO2 Films on Polymers as a Hard-Coating Using a Microwave-ECR Plasma
Sano, K. ; Tamamaki, H. ; Nomura, M. ; Wickramanayaka, S. ; Nakanishi, Y. ; Hatanaka, Y.
出版情報: Microwave processing of materials V : symposium held April 8-12, 1996, San Francisco, California, U.S.A..  pp.647-,  1996.  Pittsburgh,, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 430