1.

国際会議録
国際会議録
1. Effects of O2 gas addition on diamond-like carbon film deposition
Nakamura, N. ; Itani, T. ; Chiba, H. ; Watanabe, K. ; Kurihara, K.
出版情報: Amorphous and nanostructured carbon : sympoisum held November 29-December 2, 1999, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.415-,  2000.  Warrendale, Pa..  MRS-Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 593
2.

国際会議録
国際会議録
2. Optimization of the chromium-shielding attenuated phase shift mask for 157-nm lithography
Kurose, E. ; Watanabe, K. ; Suganaga, T. ; Itani, T. ; Fujii, K.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI.  pp.603-614,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5446
3.

国際会議録
国際会議録
3. 157-nm lithography with high numerical aperture lens for 70-nm technology node
Suganaga, T. ; Kanda, N. ; Kim, J.-H. ; Yamabe, O. ; Watanabe, K. ; Furukawa, T. ; Miyoshi, S. ; Itani, T. ; Cashmore, J.S. ; Gower, M.C.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part One  pp.584-593,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
4.

国際会議録
国際会議録
4. Feasibility study of SCAAM-type Alt-PSM for 157-nm lithography
Morikawa, Y. ; Kokubo, H. ; Noguchi, K. ; Sasaki, S. ; Mohri, H. ; Hoga, M. ; Kanda, N. ; Irie, S. ; Watanabe, K. ; Suganaga, T. ; Itani, T.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part Two  pp.1137-1145,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
5.

国際会議録
国際会議録
5. Control of side-lobe intensity for attenuated phase-shifting mask in 157-nm lithography
Watanabe, K. ; Kurose, E. ; Suganaga, T. ; Itani, T.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X.  pp.736-744,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5130
6.

国際会議録
国際会議録
6. 157-nm lithography for 65-nm node SRAM-gate
Suganaga, T. ; Irie, S. ; Miyoshi, S. ; Kim, J.-H. ; Watanabe, K. ; Kurose, E. ; Furukawa, T. ; Hagiwara, T. ; Ishimaru, T. ; Itani, T.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.261-269,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
7.

国際会議録
国際会議録
7. Wavefront aberration measurement in 157-nm high numerical aperture lens
Kim, J.-H. ; Suganaga, T. ; Watanabe, K. ; Kanda, N. ; Itani, T. ; Cashmore, J.S. ; Gower, M.C.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part Three  pp.1408-1419,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
8.

国際会議録
国際会議録
8. Sub-70-nm pattern fabrication using an alternating phase-shifting mask in 157-nm lithography
Irie, S. ; Kanda, N. ; Watanabe, K. ; Suganaga, T. ; Itani, T.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part Two  pp.1654-1664,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
9.

国際会議録
国際会議録
9. Feasibility study of TaSiOx-type Att-PSM for 157-nm lithography
Watanabe, K. ; Yamabe, O. ; Kanda, N. ; Kim, J. ; Uchida, N. ; Irie, S. ; Suganaga, T. ; Itani, T.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX.  pp.444-451,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4754
10.

国際会議録
国際会議録
10. 157-nm chromeless phase lithography with extremely high numerical aperture
Watanabe, K. ; Hagiwara, T. ; Matsuura, S. ; Suganaga, T. ; Itani, T. ; Fujii, K.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.537-544,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377