1.

国際会議録
国際会議録
1. Study of loading effect on dry etching process
Chang, S.-M. ; Chin, C.-C. ; Wang, W.-C. ; Lu, C.-L. ; Chin, S.-C.J. ; Hsieh, H.C.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X.  pp.228-233,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5130
2.

国際会議録
国際会議録
2. Mask pattern fidelity quantification
Wang, W.-C. ; Chang, S.-M. ; Chin, C.C. ; Lu, C.-L. ; Chin, A.S.J. ; Hsieh, H.-C. ; Yu, S.-S.
出版情報: 23rd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.266-275,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5256
3.

国際会議録
国際会議録
3. Global CD uniformity improvement in mask manufacturing for advanced lithography
Chang, S.-M. ; Chin, C.C. ; Wang, W.-C. ; Lu, C.-L. ; Hsieh, R.-G. ; Tsay, C.-S. ; Yen, Y.-S. ; Chin, S.-C. ; Lee, H.-C. ; Liu, R.-G. ; Chen, K.-S. ; Hsieh, H.-C. ; Ku, Y.C. ; Lin, J.C.
出版情報: 23rd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.1065-1071,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5256