1.

国際会議録
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1. SURFACE CHARACTERISATION OF Si AFTER HF TREATMENTS AND ITS INFLUENCE ON THE DIELECTRIC BREAKDOWN OF THERMAL OXIDES
Verhaverbeke, S. ; Alay, J. ; Mertens, P. ; Meuris, M. ; Heyns, M. ; Vandervorst, W. ; Murrell, M. ; Sofield, C.
出版情報: Chemical surface preparation, passivation, and cleaning for semiconductor growth and processing : symposium held April 27-29, 1992, San Francisco, California, U.S.A..  pp.391-398,  1992.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 259
2.

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2. ALTERNATIVE METHODS FOR RESIST STRIPPING
Wei, J. ; Verhaverbeke, S.
出版情報: Proceedings of the Fifth International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.496-504,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-35
3.

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3. Advanced Wet Cleaning Technology For Highly Reliable Thin Oxides
Verhaverbeke, S. ; Meuris, M. ; Mertens, P. ; Schmidt, H. ; Heyns, M.M. ; Philipossian, A. ; Graeff, D. ; Dillenbeck, K.
出版情報: Proceedings of the fourth International Symposium on Ultra Large Scale Integration Science and Technology : ULSI science and technology/1993.  pp.199-219,  1993.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1993-13
4.

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4. A HF VAPOUR ETCH PROCESS FOR INTEGRATION IN CLUSTER-TOOL PROCESSES: CHARACTERISTICS AND APPLICATIONS
Vermeulen, W.J.C. ; Kwakman, L.F.Tz. ; Werkhoven, C.J. ; Granneman, E.H.A. ; Verhaverbeke, S. ; Heyns, M.
出版情報: Proceedings of the Third International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.241-252,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-7
5.

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5. HYDROGEN PASSIVATION OF HF-LAST CLEANED (100) SILICON SURFACES: A MIR-FTIR STUDY
Bender, H. ; Verhaverbeke, S. ; Heyns, M.M.
出版情報: Proceedings of the Third International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.186-194,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-7
6.

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6. Advanced processes for photomask damage-free cleaning and photoresist removal [6281-26]
Papanu, S. J. ; Gouk, R. ; Chen, -W. H. ; Boelen, P. ; Peters, P. ; Belisle, M. ; Verhaverbeke, S. ; Ko, A. ; Child, K. ; Martinez, E.
出版情報: EMLC 2006 : 22nd European Mask and Lithography Conference : 23-26 January 2006, Dresden, Germany.  pp.62810K-,  2006.  Bellingham, Wash.,.  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6281
7.

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7. THE ROLE OF THE PEROXIDE ANION AS AN OXIDIZER IN SC-1 SOLUTIONS
Verhaverbeke, S. ; Parker, J.
出版情報: Proceedings of the Fifth International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.184-192,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-35
8.

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8. AQUEOUS SINGLE PASS SINGLE WAFER AI/VIA CLEANING
Verhaverbeke, S. ; Beaudry, C. ; Boelen, P.
出版情報: Cleaning technology in semiconductor device manufacturing VIII : proceedings of the international symposium.  pp.23-26,  2003.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-26
9.

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9. NEW SHORT CYCLE WET CLEANING CONCEPT FOR 300 mm FABRICATION LINE
Verhaverbeke, S. ; Truman, K.
出版情報: Cleaning technology semiconductor device manufacturing : proceedings of the seventh international symposium.  pp.31-36,  2001.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2001-26
10.

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10. CRITICAL ASPECTS OF WAFER CLEANING AND GATE OXIDE INTEGRITY
Mertens, P.W. ; Meuris, M. ; Schmidt, H.F. ; Verhaverbeke, S. ; Heyns, M.M. ; Carr, P. ; Graeff, D. ; Schnegg, A. ; Kubota, M. ; Dillenbeck, K. ; de Blank, R.
出版情報: Proceedings of the Satellite Symposium to ESSDERC 93 Grenoble/France : crystalline defects and contamination: their impact and control in device manufacturing.  pp.87-102,  1993.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1993-15
11.

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11. A STUDY OF METALLIC CONTAMINANTION REMOVAL AND ADDITION USING MODIFIED SC-I SOLUTIONS
Beaudry, C. ; Morinaga, H. ; Verhaverbeke, S.
出版情報: Cleaning technology semiconductor device manufacturing : proceedings of the seventh international symposium.  pp.118-125,  2001.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2001-26
12.

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12. ENGINEERING TOOLS FOR DESIGNING A METALLIC REMOVAL SOLUTION
Verhaverbeke, S.
出版情報: Cleaning technology semiconductor device manufacturing : proceedings of the seventh international symposium.  pp.87-90,  2001.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2001-26
13.

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13. A NEW CLEANING CONCEPT FOR PARTICLE AND METAL REMOVAL ON Si SURFACES
Meuris, M. ; Verhaverbeke, S. ; Mertens, P.W. ; Schmidt, H.F. ; Rotondaro, A.L.P. ; Heyns, M.M. ; Philipossian, A.
出版情報: Proceedings of the Third International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.15-25,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-7
14.

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14. SILICON SURFACE ROUGHENING BY THE DECOMPOSITION OF HYDROGEN PEROXIDE
Mertens, P.W. ; Verhaverbeke, S. ; Heyns, M.M. ; Hellemans, L. ; Snauwaert, J. ; Dillenbeck, K.
出版情報: Proceedings of the Third International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.102-110,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-7
15.

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15. THE EFFECT OF H2 ANNEALING ON THE Si SURFACE AND ITS USE IN THE STUDY OF ROUGHENING DURING WET CHEMICAL CLEANING
Verhaverbeke, S. ; Futatsuki, T. ; Messoussi, R. ; Ohmi, T.
出版情報: Proceedings of the Seventh International Symposium on Silicon Materials Science and Technology.  pp.1170-1181,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-10
16.

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16. THE RELATION BETWEEN SODIUM AND ALUMINUM CONTAMINATION AND DIELECTRIC BREAKDOWN IN MOS STRUCTURES
Verneire, B. ; Rotondaro, A.L.P. ; Mertens, P.W. ; Verhaverbeke, S. ; Heyns, M.M.
出版情報: Proceedings of the Third International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.58-64,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-7
17.

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17. MODELLING OF THE HYDROGEN PASSIVATION KINETICS OF Si IN DILUTE HF SOLUTIONS
Verhaverbeke, S. ; Meuris, M. ; Schmidt, H. ; Mertens, P. ; Heyns, M.
出版情報: Proceedings of the Third International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.176-185,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-7
18.

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18. NEW WET CLEANING STRATEGIES FOR OBTAINING HIGHLY RELIABLE THIN OXIDES
Heyns, M. M. ; Verhaverbeke, S. ; Meuris, M. ; Mertens, P. W. ; Schmidt, H. ; Kubota, M. ; Philipossian, A. ; Dillenbeck, K. ; Graf, D. ; Schnegg, A. ; Blank, R. de
出版情報: Surface chemical cleaning and passivation for semiconductor processing.  pp.35-,  1993.  Pittsburgh, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 315
19.

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19. HF-LAST CLEANINGS: A STUDY OF THE PROPERTIES WITH RESPECT TO THE DIFFERENT VARIABLES
Verhaverbeke, S. ; Bender, H. ; Meuris, M. ; Mertens, P. W. ; Schmidt, H. F. ; Heyns, M. M.
出版情報: Surface chemical cleaning and passivation for semiconductor processing.  pp.457-,  1993.  Pittsburgh, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 315
20.

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20. Advanced mask cleaning techniques for sub-100-nm technology nodes [5992-53]
Papanu, J. S. ; Gouk, R. ; Franklin, C. ; Chen, H. -W. ; Verhaverbeke, S. ; Ko, A. ; Child, K. ; Boelen, P. ; Shrauti, S. ; Martinez, E. ; Brown, B. J.
出版情報: 25th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.59921G-,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5992