1.

国際会議録
国際会議録
1. Advanced processes for photomask damage-free cleaning and photoresist removal [6281-26]
Papanu, S. J. ; Gouk, R. ; Chen, -W. H. ; Boelen, P. ; Peters, P. ; Belisle, M. ; Verhaverbeke, S. ; Ko, A. ; Child, K. ; Martinez, E.
出版情報: EMLC 2006 : 22nd European Mask and Lithography Conference : 23-26 January 2006, Dresden, Germany.  pp.62810K-,  2006.  Bellingham, Wash.,.  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6281
2.

国際会議録
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2. AQUEOUS SINGLE PASS SINGLE WAFER AI/VIA CLEANING
Verhaverbeke, S. ; Beaudry, C. ; Boelen, P.
出版情報: Cleaning technology in semiconductor device manufacturing VIII : proceedings of the international symposium.  pp.23-26,  2003.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-26
3.

国際会議録
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3. Advanced mask cleaning techniques for sub-100-nm technology nodes [5992-53]
Papanu, J. S. ; Gouk, R. ; Franklin, C. ; Chen, H. -W. ; Verhaverbeke, S. ; Ko, A. ; Child, K. ; Boelen, P. ; Shrauti, S. ; Martinez, E. ; Brown, B. J.
出版情報: 25th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.59921G-,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5992