1.

国際会議録
国際会議録
1. Feasibility of printing 0.1-ｦﾌm technology with optical lithography
Maenhoudt,M. ; Verhaegen,S. ; Ronse,K. ; Flagello,D.G. ; Geh,B. ; Kaiser,W.M.
出版情報: Optical microlithography XII : 17-19 March 1999, Santa Clara, California.  Part1  pp.347-357,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3679
2.

国際会議録
国際会議録
2. Limits of optical lithography
Maenhoudt,M. ; Verhaegen,S. ; Ronse,K. ; Zandbergen,P. ; Muzio,E.G.
出版情報: Optical microlithography XIII : 1-3 March 2000, Santa Clara, USA.  Part1  pp.373-387,  2000.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4000