1.

国際会議録
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1. Optical extensions integration for a 0.314-μm2 45-nm node 6-transistor SRAM cell
Verhaegen, S. ; Nackaerts, A. ; Wiaux, V. ; Hendrickx, E. ; Vandenberghe, G.
出版情報: Design and process integration for microelectronic manufacturing III : 3-4 March 2005, San Jose, California, USA.  pp.120-130,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5756
2.

国際会議録
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2. OPC aware mask and wafer metrology
Maurer, W. ; Wiaux, V. ; Jonckheere, R.M. ; Philipsen, V. ; Hoffmann, T. ; Verhaegen, S. ; Ronse, K.G. ; England, J.G. ; Howard, W.B.
出版情報: 18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents.  pp.175-181,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4764
3.

国際会議録
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3. Compensating measured intra-wafer ring oscillator stage delay with intra-wafer exposure dose corrections [6152-71]
Verhaegen, S. ; Nackaerts, A. ; Dusa, M. ; Carpaij, R. ; Vandenberghe, G. ; Finders, J.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XX.  pp.61521Y-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6152
4.

国際会議録
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4. Analysis of the impact of reticle CD variations on the available process windows for a 100-nm CMOS process
Verhaegen, S. ; Vandenberghe, G. ; Jonckheere, R.M. ; Ronse, K.G.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part One  pp.197-208,  2002.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889
5.

国際会議録
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5. Assessment of OPC effectiveness using two-dimensional metrics
Wiaux, V. ; Philipsen, V. ; Jonckheere, R. ; Vandenberghe, G. ; Verhaegen, S. ; Hoffmann, T. ; Ronse, K. ; Howard, W.B. ; Maurer, W. ; Preil, M.E.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part One  pp.395-406,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691