1.

国際会議録
国際会議録
1. High Quality RTCVD Sidewall Spacer Dielectrics
Miles, D. S. ; Mirabedini, M. R. ; Venables, D. ; Wortman, J. J. ; Maher, D. M.
出版情報: Rapid thermal and integrated processing IV : symposium held April 17-20, 1995, San Francisco, California, U.S.A..  pp.277-,  1995.  Pittsburgh, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 387
2.

国際会議録
国際会議録
2. A Comparison of MOS Devices with In Situ Boron Doped Polysilicon and Poly-SiGe Gates Deposited in an RTCVD System using Si2H6 and B2H6 Gas Mixture
Mirabedini, M. R. ; Li, V. Z-Q. ; Acker, A. R. ; Kuehn, R. T. ; Venables, D. ; Ozturk, M. C. ; Wortman, J. J.
出版情報: Rapid thermal and integrated processing VII : symposium held April 13-15, 1998, San Francisco, California, U.S.A..  pp.207-,  1998.  Pittsburgh, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 525