1.

国際会議録
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1. Experimental evaluation of bull’s-eye illumination for csslst-free random contact printing at sub-65nm node [6154-39]
Finders, J. ; Engelen, A. ; Vandenberghe, G. ; Bekaert, J. ; Chen, T.
出版情報: Optical Microlithography XIX.  pp.615412-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6154
2.

国際会議録
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2. Pattern displacement induced by lens aberrations
Hendrickx, E. ; Vandenberghe, G. ; Ronse, K.G. ; Colina, A. ; van der Hoff, A. ; Dusa, M.V. ; Finders, J.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part Two  pp.1155-1162,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889
3.

国際会議録
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3. ArF solutions for low-k1 back-end imaging
Wiaux, V. ; Montgomery, P.K. ; Vandenberghe, G. ; Monnoyer, P. ; Ronse, K.G. ; Conley, W. ; Litt, L.C. ; Lucas, K. ; Finders, J. ; Socha, R. ; Broeke, D.J.V.D.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.270-281,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
4.

国際会議録
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4. Compensating measured intra-wafer ring oscillator stage delay with intra-wafer exposure dose corrections [6152-71]
Verhaegen, S. ; Nackaerts, A. ; Dusa, M. ; Carpaij, R. ; Vandenberghe, G. ; Finders, J.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XX.  pp.61521Y-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6152
5.

国際会議録
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5. Experimental verification of a model-based decomposition method for double dipole lithography
Eurlings, M. ; Hsu, S.D. ; Hendrickx, E. ; op 't Root, W. ; Laidig, T.L. ; Chiou, T.-B. ; Chen, A. ; Chen, F. ; Vandenberghe, G. ; Finders, J.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.1225-1236,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377
6.

国際会議録
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6. Application challenges with double patterning technology (DPT) beyond 45 nm [6349-75]
Park, J. ; Hsu, S. ; Van Den Broeke, D. ; Chen, J. F. ; Dusa, M. ; Socha, R. ; Finders, J. ; Vleeming, B. ; van Oosten, A. ; Nikolsky, P. ; Wiaux, V. ; Hendrickx, E. ; Bekaert, J. ; Vandenberghe, G.
出版情報: Photomask Technology 2006.  pp.634922-634922,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6349