1.

国際会議録
国際会議録
1. Through-pitch low-k1 contact hole imaging with CPL technology
Wiaux, V. ; Bekaert, J. ; Chen, J.F. ; Hsu, S.D. ; Ronse, K.G. ; Socha, R.J. ; Vandenberghe, G. ; Van Den Broeke, D.J.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI.  pp.585-594,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5446
2.

国際会議録
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2. Experimental evaluation of bull’s-eye illumination for csslst-free random contact printing at sub-65nm node [6154-39]
Finders, J. ; Engelen, A. ; Vandenberghe, G. ; Bekaert, J. ; Chen, T.
出版情報: Optical Microlithography XIX.  pp.615412-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6154
3.

国際会議録
国際会議録
3. Compensating mask topography effects in CPL through-pitch solutions toward the 45nm node [5992-61]
Bekaert, J. ; Philipsen, V. ; Vandenberghe, G. ; van den Broeke, D. ; Degel, W. ; Zibold, A.
出版情報: 25th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.59921O-,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5992
4.

国際会議録
国際会議録
4. Application challenges with double patterning technology (DPT) beyond 45 nm [6349-75]
Park, J. ; Hsu, S. ; Van Den Broeke, D. ; Chen, J. F. ; Dusa, M. ; Socha, R. ; Finders, J. ; Vleeming, B. ; van Oosten, A. ; Nikolsky, P. ; Wiaux, V. ; Hendrickx, E. ; Bekaert, J. ; Vandenberghe, G.
出版情報: Photomask Technology 2006.  pp.634922-634922,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6349
5.

国際会議録
国際会議録
5. Mask topography effect in chromeless phase lithography
Philipsen, V. ; Bekaert, J. ; Vandenberghe, G. ; Jonckheere, R. ; Van Den Broeke, D. ; Socha, R.
出版情報: 24th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.669-679,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5567