1.

国際会議録
国際会議録
1. Study of alternating phase shift mask structures for ArF lithography
Kojima, Y. ; Konishi, T. ; Sasaki, J. ; Tanaka, K. ; Komizo, T. ; Morita, M. ; Shirasaki, M. ; Ohshima, T. ; Takahashi, H. ; Chiba, K. ; Otaki, M. ; Okuda, Y.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI.  pp.570-577,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5446
2.

国際会議録
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2. Inspection capability of high-transmittance HTPSM and OPC masks for ArF lithography
Tateno, M. ; Takayama, N. ; Murakami, S. ; Hatta, K. ; Akima, S. ; Matsuo, F. ; Otaki, M. ; Kim, B.-G. ; Tanaka, K. ; Yoshioka, N.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X.  pp.446-453,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5130
3.

国際会議録
国際会議録
3. Inspectability and lithographic effects of reticle defects under the aggressive OPC environment
Kim, B.G. ; Tanaka, K. ; Yoshioka, N. ; Hatta, K. ; Otaki, M.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part Two  pp.993-1000,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889
4.

国際会議録
国際会議録
4. Required performances of reticle inspection sysytem for ArF lithography through analysis of defect printability study
Kim, B.G. ; Tanaka, K. ; Yoshioka, N. ; Takayama, N. ; Hatta, K. ; Murakami, S. ; Otaki, M.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX.  pp.517-525,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4754
5.

国際会議録
国際会議録
5. Study of alternating phase-shift mask structure for 65-nm node devices
Konishi, T. ; Komizo, T. ; Takahashi, H. ; Morita, M. ; Ohshima, T. ; Chiba, K. ; Kojima, Y. ; Sasaki, J. ; Tanaka, K. ; Otaki, M. ; Okuda, Y.
出版情報: 23rd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.880-888,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5256
6.

国際会議録
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6. DUV inspection capability for 90-nm node mask in ArF lithography
Ohira, K. ; Kim, B.G. ; Tanaka, K. ; Yoshioka, N. ; Tateno, M. ; Takayama, N. ; Murakami, S. ; Hatta, K. ; Akima, S. ; Matsuo, F. ; Otaki, M.
出版情報: 23rd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.1181-1190,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5256