1.

国際会議録
国際会議録
1. Inductively Coupled Ar/CCl2F4/Cl2 Plasma Etching of Ge
T. Kim ; S. Choi ; T. Jeong ; S. Kang ; K. Shim
出版情報: SiGe, Ge, and Related Compounds 3: Materials, Processing, and Devices.  pp.127-133,  2008.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 16(10)
2.

国際会議録
国際会議録
2. Photocurrent of SiGe/Si Strained Multiple Quantum-Wells Grown by UHV-CVD
T. Kim ; S. Choi ; T. Jeong ; S. Kang ; K. Shim
出版情報: SiGe, Ge, and Related Compounds 3: Materials, Processing, and Devices.  pp.875-880,  2008.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 16(10)