1.

国際会議録
国際会議録
1. Cryogenic aerosol cleaning of photomasks [5853-12]
Banerjee, S. ; Lin, C. C. ; Su, S. ; Chung, H. F. ; Brandt, W. ; Tang, K.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XII.  pp.90-99,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5853
2.

国際会議録
国際会議録
2. A novel dynamic displacement measure insturment and experiments with nanometer resolution [6358-18]
Su, S. ; Guo, X. ; Han, H. ; Zhao, D.
出版情報: Sixth International Symposium on Instrumentation and Control Technology: Sensors, Automatic Measurement, Control, and Computer Simulation.  pp.63580I-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6358
3.

国際会議録
国際会議録
3. Characterization of photomask surface cleaning with cryogenic aerosol technique [5922-54]
Banerjee, S. ; Lin, C. C. ; Su, S. ; Bowers, C. ; Chung, H. F. ; Brandt, W. ; Tang, K.
出版情報: 25th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.59921H-,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5992
4.

国際会議録
国際会議録
4. Reference pattern-based 2D measurement with nano resolution [6376-12]
Wang, Z. ; Su, S. ; Verevkin, Y. K. ; Fatikow, S.
出版情報: Optomechatronic Micro/Nano Devices and Components II.  pp.63760M-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6376