1.

国際会議録
国際会議録
1. Effect of Cl in Gate Oxidation
Mertens, P. W. ; McGeary, M. J. ; Schaekers, M. ; Sprey, H. ; Vermeire, B. ; Depas, M. ; Meuris, M. ; Heyns, M. M.
出版情報: Science and technology of semiconductor surface preparation : symposium held April 1-3, 1997, San Francisco, California, U.S.A..  pp.89-,  1997.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 477
2.

国際会議録
国際会議録
2. Critical Processes for Ultrathin Gate Oxide Integrity
Depas, M. ; Heyns, M.M. ; Nigam, T. ; Kenis, K. ; Sprey, H. ; Wilhelm, R. ; Crossley, A. ; Sofield, C.J. ; Graef, D.
出版情報: The physics and chemistry of SiO[2] and the Si-SiO[2] interface-3, 1996 : proceedings of the Third International Symposium on the Physics and Chemistry of SiO[2] and the Si-SiO[2] Interface.  pp.352-366,  1996.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-1
3.

国際会議録
国際会議録
3. Effect of Cl in Gate Oxidation
Mertens, P. W. ; McGeary, M. J. ; Schaekers, M. ; Sprey, H. ; Vermeire, B. ; Depas, M. ; Meuris, M. ; Heyns, M. M.
出版情報: Materials reliability in microelectronics VII : symposium held April 8-12, 1997, San Francisco, California, U.S.A..  pp.149-,  1997.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 473