1.

国際会議録
国際会議録
1. Bias Power Effect on Property of PECVD Low-k SiOCH Film
Shioya, Y. ; Ohdaira, T. ; Suzuki, R. ; Maeda, K.
出版情報: Chemical vapor deposition XVI and EUROCVD 14 : proceedings of the international symposium.  pp.653-660,  2003.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-8
2.

国際会議録
国際会議録
2. Cu Barrier Property of Low-K SiOCH Film with k = 3.5 Deposited by PE-CVD Using HMDSO and N2O Gases
Shioya, Y. ; Nishimoto, Y. ; Ohdaira, T. ; Suzuki, R. ; Maeda, K.
出版情報: Chemical vapor deposition XVI and EUROCVD 14 : proceedings of the international symposium.  pp.1239-1246,  2003.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-8
3.

国際会議録
国際会議録
3. Nitrogen-Free Cu Barrier SiOCH Film with k = 4.3
Nishimoto, Y. ; Shioya, Y. ; Shimoda, H. ; Ohdaira, T. ; Suzuki, R. ; Maeda, K.
出版情報: Chemical vapor deposition XVI and EUROCVD 14 : proceedings of the international symposium.  pp.1231-1238,  2003.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-8
4.

国際会議録
国際会議録
4. Positron and Positronium Annihilation in Low-Dielectric-Constant Films Studied by a Pulsed Positron Beam
Suzuki, R. ; Ohdaira, T. ; Kobayashi, Y. ; Ito, K. ; Yu, R.S. ; Shioya, Y. ; Ichikawa, H. ; Hosomi, H. ; Ishikiriyama, K. ; Shirataki, H. ; Matsuno, S. ; Xu, J.
出版情報: Positron annihilation ICPA-13 : proceedings of the 13th International Conference on Positron Annihilation, Kyoto, Japan, September 2003.  pp.224-228,  2004.  Uetikon-Zuerich.  Trans Tech Publications
シリーズ名: Materials science forum
シリーズ巻号: 445-446