1.

国際会議録
国際会議録
1. Application of Cr-less mask technology for sub-100-nm gate with single exposure
Kim, S.-H. ; Chung, D.-H. ; Park, J.S.. ; Shin, I.K. ; Choi, S.W. ; Sohn, J.-M. ; Lee, J.-H. ; Shin, H.-S. ; Chen, J.F. ; Van Den Broeke, D.J.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part One  pp.568-578,  2002.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889
2.

国際会議録
国際会議録
2. Full-chip application for SRAM gate at 100-nm node and beyond using chromeless phase lithography
Park, J.-S. ; Kim, S.-H. ; Shin, I.-K. ; Choi, S.-W. ; Sohn, J.-M. ; Lee, J.-H. ; Shin, H.-S. ; Laidig, T.L. ; Van den Broeke, D.J. ; Chen, J.F.
出版情報: 23rd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.112-121,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5256