1.

国際会議録
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1. *DEFECT STRUCTURES AND ELETRICAL BEHAVIOR OF RAPID THERMALLY ANNEALED ION IMPLANTED SILICON
Sadana, D. K.
出版情報: Rapid thermal processing of electronic materials : symposium held April 21-23, 1987, Anaheim California, U.S.A..  pp.319-328,  1987.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 92
2.

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2. DYNAMIC ANNEALING PHENOMENA AND THE ORIGIN OF RTA-INDUCED “HAIRPIN" DISLOCATIONS
Maszara, W. ; Sadana, D. K. ; Rozgonyi, G. A. ; Sands, T. ; Washburn, J. ; Wortman, J. J.
出版情報: Energy beam-solid interactions and transient thermal processing/1984 : symposium held November 26-30, 1984, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.277-286,  1985.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 35
3.

国際会議録
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3. SHALLOW DOPING OF GALLIUM ARSENIDE BY RECOIL IMPLANTATION
Sadana, D. K. ; de Souza, J. P. ; Rutz, R. F. ; Cardone, F. ; Norcott, M. H.
出版情報: Ion beam processing of advanced electronic materials : symposium held April 25-27, 1989, San Diego, California, U.S.A..  pp.315-320,  1989.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 147
4.

国際会議録
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4. GETTERING AND PRECIPITATION PHENOMENA IN SEMICONDUCTORS
Sadana, D. K.
出版情報: Impurity diffusion and gettering in silicon : symposium held November 27-30, 1984, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.245-256,  1985.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 36
5.

国際会議録
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5. STUDY OF METASTABLE Fe-W FILMS
Goltz, G. ; Fernandez, R. ; Nicolet, M.-A. ; Sadana, D. K.
出版情報: Metastable materials formation by ion implantation : proceedings of the Materials Research Society annual meeting, November 1981, Boston Park Plaza Hotel, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.227-234,  1982.  New York.  North-Holland
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 7
6.

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6. INFLUENCE OF RAPID THERMAL ANNEALING OF SHALLOW BF2 IMPLATATION INTO PRE-AMORPHIZED SILICON
Maszara, W. ; Carter, C. ; Sadana, D. K. ; Liu, J. ; Ozguz, V. ; Wortman, J. ; Rozgonyi, G. A.
出版情報: Energy beam-solid interactions and transient thermal processing : symposium held November 1983 in Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.285-292,  1984.  New York.  North-Holland
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 23
7.

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7. GERMANIUM IMPLANTATION INTO SILICON: AN ALTERNATE PRE-AMORPHIZATION/RAPID THERMAL ANNEALING PROCEDURE FOR SHALLOW JUNCTION TECHNOLOGY
Sadana, D. K. ; Myers, E. ; Liu, J. ; Finstaad, T. ; Rozgonyi, G. A.
出版情報: Energy beam-solid interactions and transient thermal processing : symposium held November 1983 in Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.303-308,  1984.  New York.  North-Holland
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 23
8.

国際会議録
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8. OXIDATION ENHANCED DIFFUSION OF Si AND Ge IN GaAs
Chang, J. C. P. ; Kavanagh, K. L. ; Cardone, F. ; Sadana, D. K.
出版情報: Rapid thermal and integrated processing : symposium held April 30-May 3, 1991, Anaheim, California, U.S.A..  pp.457-460,  1991.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 224
9.

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9. HIGH RESOLUTION TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY STUDY OF Se+ IMPALNATED AND ANNEALED GaAs
Sadana, D. K. ; Sands, T. ; Washburn, J.
出版情報: Ion implantation and ion beam processing of materials : symposium held November 1983 in Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.311-322,  1984.  New York.  North-Holland
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 27
10.

国際会議録
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10. SHALLOW ION IMPLANTATION IN GALLIUM ARSENIDE MESFET TECHNOLOGY
de Souza, J. P. ; Sadana, D. K.
出版情報: Advanced III-V compound semiconductor growth, processing and devices : symposium held Decmber[i.e. December] 2-5, 1991, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.887-900,  1992.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 240
11.

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11. HEATING RATE EFFECTS IN RAPID THERMAL ANNEALING OF ARSENIC IMPLANTED SILICON
Souza, J. P. de ; Fichtner, P. F. P. ; Sadana, D. K.
出版情報: Rapid thermal and integrated processing III : symposium held April 4-7, 1994, San Francisco, California, U.S.A..  pp.351-,  1994.  Pittsburgh, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 342
12.

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12. SIMOX MATERIAL DEVELOPMENT FOR SUB-0.25ｦﾌm CMOS TECHNOLOGY
Sadana, D. K. ; Hovel, H. J. ; Freeouf, J. L. ; Chu, S. F.
出版情報: Materials synthesis and processing using ion beams : symposium held November 29-December 3, 1993, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.699-,  1994.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 316
13.

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13. DAMAGE AND IN-SITU ANNEALING DURING ION IMPLANTATION
Sadana, D. K. ; Washburn, J. ; Byrne, P. F. ; Cheung, N. W.
出版情報: Defects in semiconductors II : symposium held November 1982 in Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.511-516,  1983.  New York.  North-Holland
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 14
14.

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14. Strain Engineering for Si CMOS Technology (Invited paper)
Sadana, D. K. ; Bedell, S. W. ; Reznicek, A. ; de Souza, J.P. ; Fogel, K. ; Hovel, H.
出版情報: ULSI Process Integration : proceedings of the International Symposium.  pp.360-384,  2005.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2005-06
15.

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15. Semiconductor Materials Defect Diagnostics for Submicrometer Very Large Scale Integration Technology
Rozgonyi, G. A. ; Sadana, D. K.
出版情報: Microelectronics processing : inorganic materials characterization.  pp.75-,  1986.  Washington, DC.  American Chemical Society
シリーズ名: ACS symposium series
シリーズ巻号: 295