1.

国際会議録
国際会議録
1. Mask quality assurance in cleaning for haze elimination using flexible mask specifications
K. Otsubo ; S. Yamaguchi ; Y. Arisawa ; H. Mukai ; T. Kotani ; H. Mashita ; H. Hashimoto ; T. Kamo ; T. Tsutsui ; O. Ikenaga
出版情報: Photomask and next-generation lithography mask technology XIV.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6607
2.

国際会議録
国際会議録
2. Accuracy of mask pattern contour extraction with fine-pixel SEM images
S. Yamaguchi ; E. Yamanaka ; H. Mukai ; T. Kotani ; H. Mashita
出版情報: Photomask technology 2007.  2  pp.673036-1-673036-12,  2007.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6730