1.

国際会議録
国際会議録
1. A study of mask specification in spacer patterning technology
H. Mukai ; Y. Kobayashi ; S. Yamaguchi ; K. Kawano ; K. Hashimoto
出版情報: Photomask and next-generation lithography mask technology XV.  1  pp.702812-1-702812-8,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7028
2.

国際会議録
国際会議録
2. Mask specification guidelines in spacer patterning technology
K. Hashimoto ; H. Mukai ; S. Miyoshi ; S. Yamaguchi ; H. Mashita
出版情報: Lithography Asia 2008.  2  pp.714022-1-714022-10,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7140