1.

国際会議録
国際会議録
1. Split and design guidelines for double patterning
V. Wiaux ; S. Verhaegen ; S. Cheng ; F. Iwamoto ; P. Jaenen
出版情報: Optical Microlithography XXI.  1  pp.692409-1-692409-11,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6924
2.

国際会議録
国際会議録
2. A methodology for double patterning compliant split and design
V. Wiaux ; S. Verhaegen ; F. Iwamoto ; M. Maenhoudt ; T. Matsuda
出版情報: Lithography Asia 2008.  1  pp.71401X-1-71401X-14,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7140