1.

国際会議録
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1. Through-pitch low-k1 contact hole imaging with CPL technology
Wiaux, V. ; Bekaert, J. ; Chen, J.F. ; Hsu, S.D. ; Ronse, K.G. ; Socha, R.J. ; Vandenberghe, G. ; Van Den Broeke, D.J.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI.  pp.585-594,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5446
2.

国際会議録
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2. OPC aware mask and wafer metrology
Maurer, W. ; Wiaux, V. ; Jonckheere, R.M. ; Philipsen, V. ; Hoffmann, T. ; Verhaegen, S. ; Ronse, K.G. ; England, J.G. ; Howard, W.B.
出版情報: 18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents.  pp.175-181,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4764
3.

国際会議録
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3. Status 157-nm lithography development at IMEC
Ronse, K.G. ; Bisschop, P.D. ; Eliat, A. ; Goethals, A.M. ; Hermans, J. ; Jonckheere, R. ; Heuvel, D.V.D. ; Roey, F.V. ; Beckx, S. ; Wouters, J.M. ; Marneffe, J.F. ; O'Neil, T. ; Tirri, B. ; Sewell, H.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.640-649,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
4.

国際会議録
国際会議録
4. Extending ArF to the 65-nm node with full-phase lithography
Driessen, F.A. ; Pierrat, C. ; Vandenberghe, G. ; Ronse, K.G. ; Adrichem, P. ; Liu, H.-Y.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part Two  pp.1091-1102,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
5.

国際会議録
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5. Pattern displacement induced by lens aberrations
Hendrickx, E. ; Vandenberghe, G. ; Ronse, K.G. ; Colina, A. ; van der Hoff, A. ; Dusa, M.V. ; Finders, J.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part Two  pp.1155-1162,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889
6.

国際会議録
国際会議録
6. ArF solutions for low-k1 back-end imaging
Wiaux, V. ; Montgomery, P.K. ; Vandenberghe, G. ; Monnoyer, P. ; Ronse, K.G. ; Conley, W. ; Litt, L.C. ; Lucas, K. ; Finders, J. ; Socha, R. ; Broeke, D.J.V.D.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.270-281,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
7.

国際会議録
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7. Analysis of the impact of reticle CD variations on the available process windows for a 100-nm CMOS process
Verhaegen, S. ; Vandenberghe, G. ; Jonckheere, R.M. ; Ronse, K.G.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part One  pp.197-208,  2002.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889
8.

国際会議録
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8. Contamination monitoring and control on ASML MS-VII 157-nm exposure tool
Okoroanyanwu, U. ; Gronheid, R. ; Coenen, J. ; Hermans, J. ; Ronse, K.G.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.1695-1707,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377
9.

国際会議録
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9. Optical path and image performance monitoring of a full-field 157-nm scanner
Wells, G. ; Hermans, J. ; Watso, R. ; Kang, Y.-S. ; Morton, R. ; Kocsis, M.K. ; Okoroanyanwu, U. ; De Bisschop, P. ; Stepanenko, N. ; Ronse, K.G.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.91-98,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377
10.

国際会議録
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10. Experimental investigation of fabrication process-, transportation-, storage, and handling-induced contamination of 157-nm reticles and vacuum UV cleaning
Okoroanyanwu, U. ; Stepanenko, N. ; Vereecke, G. ; Eliat, A. ; Kocsis, M.K. ; Kang, Y.S. ; Jonckheere, R.M. ; Conard, T. ; Ronse, K.G.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.487-503,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377