1.

国際会議録
国際会議録
1. Through-pitch low-k1 contact hole imaging with CPL technology
Wiaux, V. ; Bekaert, J. ; Chen, J.F. ; Hsu, S.D. ; Ronse, K.G. ; Socha, R.J. ; Vandenberghe, G. ; Van Den Broeke, D.J.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI.  pp.585-594,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5446
2.

国際会議録
国際会議録
2. OPC aware mask and wafer metrology
Maurer, W. ; Wiaux, V. ; Jonckheere, R.M. ; Philipsen, V. ; Hoffmann, T. ; Verhaegen, S. ; Ronse, K.G. ; England, J.G. ; Howard, W.B.
出版情報: 18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents.  pp.175-181,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4764
3.

国際会議録
国際会議録
3. ArF solutions for low-k1 back-end imaging
Wiaux, V. ; Montgomery, P.K. ; Vandenberghe, G. ; Monnoyer, P. ; Ronse, K.G. ; Conley, W. ; Litt, L.C. ; Lucas, K. ; Finders, J. ; Socha, R. ; Broeke, D.J.V.D.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.270-281,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040