1.

国際会議録
国際会議録
1. Through-pitch low-k1 contact hole imaging with CPL technology
Wiaux, V. ; Bekaert, J. ; Chen, J.F. ; Hsu, S.D. ; Ronse, K.G. ; Socha, R.J. ; Vandenberghe, G. ; Van Den Broeke, D.J.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI.  pp.585-594,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5446
2.

国際会議録
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2. Extending ArF to the 65-nm node with full-phase lithography
Driessen, F.A. ; Pierrat, C. ; Vandenberghe, G. ; Ronse, K.G. ; Adrichem, P. ; Liu, H.-Y.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part Two  pp.1091-1102,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
3.

国際会議録
国際会議録
3. Pattern displacement induced by lens aberrations
Hendrickx, E. ; Vandenberghe, G. ; Ronse, K.G. ; Colina, A. ; van der Hoff, A. ; Dusa, M.V. ; Finders, J.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part Two  pp.1155-1162,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889
4.

国際会議録
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4. ArF solutions for low-k1 back-end imaging
Wiaux, V. ; Montgomery, P.K. ; Vandenberghe, G. ; Monnoyer, P. ; Ronse, K.G. ; Conley, W. ; Litt, L.C. ; Lucas, K. ; Finders, J. ; Socha, R. ; Broeke, D.J.V.D.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.270-281,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
5.

国際会議録
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5. Analysis of the impact of reticle CD variations on the available process windows for a 100-nm CMOS process
Verhaegen, S. ; Vandenberghe, G. ; Jonckheere, R.M. ; Ronse, K.G.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part One  pp.197-208,  2002.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889