1.

国際会議録
国際会議録
1. Status 157-nm lithography development at IMEC
Ronse, K.G. ; Bisschop, P.D. ; Eliat, A. ; Goethals, A.M. ; Hermans, J. ; Jonckheere, R. ; Heuvel, D.V.D. ; Roey, F.V. ; Beckx, S. ; Wouters, J.M. ; Marneffe, J.F. ; O'Neil, T. ; Tirri, B. ; Sewell, H.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.640-649,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
2.

国際会議録
国際会議録
2. Contamination monitoring and control on ASML MS-VII 157-nm exposure tool
Okoroanyanwu, U. ; Gronheid, R. ; Coenen, J. ; Hermans, J. ; Ronse, K.G.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.1695-1707,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377
3.

国際会議録
国際会議録
3. Optical path and image performance monitoring of a full-field 157-nm scanner
Wells, G. ; Hermans, J. ; Watso, R. ; Kang, Y.-S. ; Morton, R. ; Kocsis, M.K. ; Okoroanyanwu, U. ; De Bisschop, P. ; Stepanenko, N. ; Ronse, K.G.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.91-98,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377