1.

国際会議録
国際会議録
1. Full field EUV lithography turning into a reality at IMEC
R. Jonckheere ; G. F. Lorusso ; A. M. Goethals ; J. Hermans ; B. Baudemprez ; A. Myers ; I. Kim ; A. Niroomand ; F. Iwamoto ; N. Stepanenko ; K. Ronse
出版情報: Photomask and next-generation lithography mask technology XIV.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6607
2.

国際会議録
国際会議録
2. Assessment of EUV reticle blank availability enabling the use of EUV tools today and in the future
R. Jonckheere ; G. F. Lorusso ; A. Goethals ; K. Ronse ; J. Hermans ; R. D. Ruyter
出版情報: EMLC 2007 : 23rd european mask and lithography conference : 22-25 January 2007, Grenoble, France.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6533
3.

国際会議録
国際会議録
3. EUV lithography program at IMEC
A. M. Goethals ; R. Jonckheere ; G. F. Lorusso ; J. Hermans ; F. V. Roey ; A. Myers ; M. Chandhok ; I. Kim ; A. Niroomand ; F. Iwamoto ; N. Stepanenko ; R. Gronheid ; B. Baudemprez ; K. Ronse
出版情報: Emerging lithographic technologies XI.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6517
4.

国際会議録
国際会議録
4. Dependence of EUV mask printing performance on blank architecture
R. Jonckheere ; Y. Hyun ; F. Iwamoto ; B. Baudemprez ; J. Hermans
出版情報: Emerging lithographic technologies XII.  2  pp.69211W-1-69211W-14,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6921