1.

国際会議録
国際会議録
1. Full field EUV lithography turning into a reality at IMEC
R. Jonckheere ; G. F. Lorusso ; A. M. Goethals ; J. Hermans ; B. Baudemprez ; A. Myers ; I. Kim ; A. Niroomand ; F. Iwamoto ; N. Stepanenko ; K. Ronse
出版情報: Photomask and next-generation lithography mask technology XIV.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6607
2.

国際会議録
国際会議録
2. Full field EUV lithography: lessons learned on EUV ADT imaging, EUV resist, and EUV reticles
E. Hendrickx ; A. M. Goethals ; A. Niroomand ; R. Jonckheere ; F. Van Roey
出版情報: Lithography Asia 2008.  1  pp.714007-1-714007-11,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7140
3.

国際会議録
国際会議録
3. EUV lithography program at IMEC
A. M. Goethals ; R. Jonckheere ; G. F. Lorusso ; J. Hermans ; F. V. Roey ; A. Myers ; M. Chandhok ; I. Kim ; A. Niroomand ; F. Iwamoto ; N. Stepanenko ; R. Gronheid ; B. Baudemprez ; K. Ronse
出版情報: Emerging lithographic technologies XI.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6517
4.

国際会議録
国際会議録
4. Investigation of mask defectivity in full field EUV lithography
R. Jonckheere ; F. Iwamoto ; G. F. Lorusso ; A. M. Goethals ; K. Ronse
出版情報: Photomask technology 2007.  1  pp.673012-1-673012-12,  2007.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6730