1.

国際会議録
国際会議録
1. On the ｢紜symmetrical｢？Behavior of Transient Enhanced Diffusion in Pre-Amorphized Si Wafers
Alquier, D. ; Cowern, N. E. B. ; Pichler, P. ; Armand, C. ; Martinez, A. ; Mathiot, D. ; Omri, M. ; Claverie, A.
出版情報: Silicon front-end technology--materials processing and modelling, symposium held April 13-15, 1998, San Francisco, California, U.S.A..  pp.67-,  1998.  Warrendale, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 532
2.

国際会議録
国際会議録
2. Current Understanding and Modeling of B Diffusion and Activation Anomalies in Preamorphized Ultra-Shallow Junctions
Colombeau, B. ; Smith, A.J. ; Cowern, N.E.B. ; Pawlak, B.J. ; Cristiano, F. ; Duffy, R. ; Claverie, A. ; Ortiz, C.J. ; Pichler, P. ; Lampin, E. ; Zechner, C.
出版情報: Silicon front-end junction formation : physics and technology : symposium held April 13-15, 2004, San Francisco, California, U.S.A..  pp.91-102,  2004.  Warrendale, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 810