1.

国際会議録
国際会議録
1. Assessment of a hypothetical road map that extends optical lithography through the 70-nm technology node
Petersen,J.S. ; McCallum,M. ; Kachwala,N. ; Socha,R.J. ; Chen,J.F. ; Laidig,T.L. ; Smith,B.W. ; Gordon,R.L. ; Mack,C.A.
出版情報: Lithography for semiconductor manufacturing : 19-21 May 1999, Edinburgh, Scotland.  pp.73-89,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3741
2.

国際会議録
国際会議録
2. Design of 200-nm,170-nm,and 140-nm DUV contact sweeper high-transmission attenuating phase-shift mask:?.Experimental results
Socha,R.J. ; Shi,X. ; Holman,K.C. ; Dusa,M.V. ; Conley,W. ; Petersen,J.S. ; Chen,J.F. ; Laidig,T.L. ; Wampler,K.E. ; Caldwell,R.F. ; Chu,M.C. ; Su,C. ; Huang,K. ; Chen,C. ; Le,C. ; Pierrat,C. ; Su,B.
出版情報: Optical microlithography XII : 17-19 March 1999, Santa Clara, California.  Part1  pp.38-54,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3679
3.

国際会議録
国際会議録
3. Binary halftone chromeless PSM technology for λ/4 optical lithography
Chen,J.F. ; Petersen,J.S. ; Socha,R.J. ; Laidig,T.L. ; Wampler,K.E. ; Nakagawa,K.H. ; Hughes,G.P. ; MacDonald,S.S. ; Ng,W.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.515-533,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346
4.

国際会議録
国際会議録
4. Design of 200-nm,170-nm,and 140-nm DUV contact sweeper high-transmission attenuating phase-shift mask through simulation:I
Socha,R.J. ; Petersen,J.S. ; Chen,J.F. ; Laidig,T.L. ; Wampler,K.E. ; Caldwell,R.F.
出版情報: 18th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management.  pp.617-641,  1998.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3546
5.

国際会議録
国際会議録
5. Assessment of a hypothetical roadmap that extends optical lithography through the 70-nm technology node
Petersen,J.S. ; McCallum,M. ; Kachwala,N. ; Socha,R.J. ; Chen,J.F. ; Laidig,T.L. ; Smith,B.W. ; Gordon,R.L. ; Mack,C.A.
出版情報: 18th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management.  pp.288-303,  1998.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3546