1.

国際会議録
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1. Process Integration for DRAM Cell Transistor Optimization*
Lee, S. ; Park, S. ; Kim, I. ; Yoon, H.
出版情報: ULSI Process Integration : proceedings of the International Symposium.  pp.250-259,  2001.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2001-2
2.

国際会議録
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2. A New Method of Diagnosing Simultaneous Multiple Faults via Neural Networks
Lee, S. ; Park, S. ; Himmelblau, D.
出版情報: AIChE ANNUAL MEETING - NOVEMBER 16-21, 1997 - LOS ANGELES, CA.  1997.  New York.  American Institute of Chemical Engineers
シリーズ名: AIChE meeting [papers]
シリーズ巻号: 1997
3.

国際会議録
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3. Adaptive high definition MPEG-2 streaming using frame-based prioritization over IEEE 802.11a WLAN [5960-199]
Park, S. ; Lee, S. ; Kim, J.
出版情報: Visual Communications and Image Processing 2005.  pp.1880-1890,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5960
4.

国際会議録
国際会議録
4. Study of the beam blur and its effect on the future mask fabrication [6349-33]
Lee, S. ; Park, S. ; Ahn, M. ; Doh, J. ; Kim, S. ; Kim, B. ; Choi, S. ; Han, W.
出版情報: Photomask Technology 2006.  pp.63490X-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6349
5.

国際会議録
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5. Study of higher electron beam energy for the mask production for 30 nm node technology [6283-06]
Lee, S. ; Park, S. ; Kim, B. ; Choi, S. ; Han, W.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII.  pp.628308-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6283