1.

国際会議録
国際会議録
1. Process Integration for DRAM Cell Transistor Optimization*
Lee, S. ; Park, S. ; Kim, I. ; Yoon, H.
出版情報: ULSI Process Integration : proceedings of the International Symposium.  pp.250-259,  2001.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2001-2
2.

国際会議録
国際会議録
2. A New Method of Diagnosing Simultaneous Multiple Faults via Neural Networks
Lee, S. ; Park, S. ; Himmelblau, D.
出版情報: AIChE ANNUAL MEETING - NOVEMBER 16-21, 1997 - LOS ANGELES, CA.  1997.  New York.  American Institute of Chemical Engineers
シリーズ名: AIChE meeting [papers]
シリーズ巻号: 1997
3.

テクニカルペーパー
テクニカルペーパー
3. Flight Test Results of UAV Automatic Control Using a Single-Antenna GPS Receiver
Lee, S. ; Lee, T. ; Park, S. ; Kee, C.
出版情報: A collection of technical papers : AIAA Guidance, Navigation and Control Conference, Austin, Texas, 11-14 August 2003.  v. 3  pp.1837-1844,  2003.  Reston, Va..  American Institute of Aeronautics and Astronautics
シリーズ名: AIAA Paper : AIAA Guidance Navigation and Control Conference
シリーズ巻号: 2003
4.

テクニカルペーパー
テクニカルペーパー
4. Model-Based Development of Engine Control System from Concept to Vehicle.
Park, S. ; Yoo, H. ; Park, Y. ; Lee, S.
出版情報: 2006 SAE world congress : technical paper.  2006.  Warrendale, Penn..  Society of Automotive Engineers
シリーズ名: Society of Automotive Engineers technical paper series
シリーズ巻号: 2006
5.

国際会議録
国際会議録
5. Adaptive high definition MPEG-2 streaming using frame-based prioritization over IEEE 802.11a WLAN [5960-199]
Park, S. ; Lee, S. ; Kim, J.
出版情報: Visual Communications and Image Processing 2005.  pp.1880-1890,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5960
6.

国際会議録
国際会議録
6. Study of the beam blur and its effect on the future mask fabrication [6349-33]
Lee, S. ; Park, S. ; Ahn, M. ; Doh, J. ; Kim, S. ; Kim, B. ; Choi, S. ; Han, W.
出版情報: Photomask Technology 2006.  pp.63490X-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6349
7.

国際会議録
国際会議録
7. Study of higher electron beam energy for the mask production for 30 nm node technology [6283-06]
Lee, S. ; Park, S. ; Kim, B. ; Choi, S. ; Han, W.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII.  pp.628308-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6283