1.

国際会議録
国際会議録
1. Study of OPC for AAPSM reticles using various mask fabrication techniques
Hughes, G.P. ; Kamaruddin, D. ; Nakagawa, K.H. ; MacDonald, S. ; Wilkinson, B. ; West, C. ; Park, K.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.204-211,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377
2.

国際会議録
国際会議録
2. Through pitch intensity balancing and phase error analysis of 193-nm alternating phase shift masks
Nakagawa, K.H. ; Hughes, G.P. ; Park, K. ; Buck, P.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.1025-1031,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377
3.

国際会議録
国際会議録
3. Analysis of off-axis-illumination-based phase-edge/chromeless mask technologies
Croffie, E.H. ; Taravade, K.N. ; Callan, N. ; Park, K. ; Hughes, G.P.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.1279-1286,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377