1.

国際会議録
国際会議録
1. Accurate and reliable optical CD of MuGFET down to 10nm
P. Leray ; G. F. Lorusso ; S. Cheng ; N. Collaert ; M. Jurczak ; S. Shirke
出版情報: Metrology, inspection, and process control for microlithography XXI.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6518
2.

国際会議録
国際会議録
2. Diffraction based overlay metrology: accuracy and performance on front end stack
P. Leray ; S. Cheng ; D. Kandel ; M. Adel ; A. Marchelli
出版情報: Metrology, inspection, and process control for microlithography XXII.  1  pp.69220O-1-69220O-12,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6922
3.

国際会議録
国際会議録
3. Sources of overlay error in double patterning integration schemes
D. Laidler ; P. Leray ; K. D'havé ; S. Cheng
出版情報: Metrology, inspection, and process control for microlithography XXII.  1  pp.69221E-1-69221E-11,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6922