1.

国際会議録
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1. Deformation behavior of TiNi shape memory alloy under strain- or stress-controlled conditions
Tobushi, H. ; Okumura, K. ; Endo, M. ; Tanaka, K.
出版情報: Smart structures and materials 2002 : active materials : behavior and mechanics : 18-21 March 2002, San Diego, USA.  pp.374-385,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4699
2.

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2. Experimental Study on Low Frequency Noise of Various HEMTs at 4.2 K
Hosako, I. ; Hiromoto, N. ; Okumura, K. ; Yui, Y.Y. ; Akiba, M. ; Fujiwara, M.
出版情報: Proceedings of the fourth Symposium on Low Temperature Electronics and High Temperature Superconductivity.  pp.207-214,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-2
3.

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3. Long monolithic planar cell: a new SOFC design for high power density generation
Kawasaki, S. ; Okumura, K. ; Esaki, Y. ; Hattori, M. ; Sakaki, Y. ; Fujita, J. ; Takeuchi, S.
出版情報: Proceedings of the Fifth International Symposium on Solid Oxide Fuel Cells (SOFC-V).  pp.171-179,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-40
4.

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4. Microstructure and Overvoltage Characteristics of the Anode for Solid Oxide Fuel Cells
Okumura, K. ; Yamamoto, Y. ; Fukui, T. ; Hanyu, S. ; Kubo, Y. ; Esaki, Y. ; Hattori, M. ; Kusunoki, A. ; Takeuchi, S.
出版情報: Proceedings of the Third International Symposium on Solid Oxide Fuel Cells.  pp.444-453,  1993.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1993-4
5.

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5. Water vapor tolerance of Pd/HZSM-5 in the NO-Methane-O2 reaction: Its relation with very strong solid acidity of zeolite support
Amano, J. ; Shoji, O. ; Okumura, K. ; Niwa, M.
出版情報: 12th International Congress on Catalysis : proceedings of the 12th ICC, Granada, Spain, July 9-14, 2000.  pp.905-,  2000.  Amsterdam.  Elsevier
シリーズ名: Studies in surface science and catalysis
シリーズ巻号: 130
6.

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6. *Chemical vapor deposition and electrode technologies for (Ba,Sr) TiO3 capacitor used in gigabit DRAM
Eguchi, K. ; Hieda, K. ; Nakahira, J. ; Kiyotoshi, M. ; Nakabayashi, M. ; Yamazaki, S. ; Izuha, M. ; Aoyama, T. ; Tsunoda, K. ; Lin, J. ; Nakamura, K. ; Niwa, S. ; Tomita, H. ; Shimada, A. ; Kohyama, Y. ; Ishibashi, Y. ; Fukuzumi, Y. ; Arikado, T. ; Okumura, K.
出版情報: Ferroelectric thin films VIII : symposium held November 29-December 2, 1999, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.3-,  2000.  Warrendale, PA.  MRS-Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 596
7.

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7. ACTIVATION ENERGY FOR THE C49-TO-C54 PHASE TRANSITION OF POLYCRYSTALLINE TiSi2 FILMS WITH UNDER 30nm THICKNESS
Matsubara, Y. ; Noguchi, K. ; Okumura, K.
出版情報: Phase transformations in thin films : thermodynamics and kinetics : symposium held April 13-15, 1993, San Francisco, California, U.S.A..  pp.263-,  1993.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 311
8.

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8. Topics in ISOCAM Spectroscopy Calibration (Invited Paper)
Biviano, A. ; Altieri, B. ; Blommaert, J. ; Boulanger, F. ; Cesarsky, D. ; Okumura, K. ; Reach, W
出版情報: Proceedings of the First ISO Workshop on Analytical Spectroscopy : Madrid, Spain, 6-8 October 1997.  pp.61-66,  1997.  Noordwijk, The Netherlands.  ESA Publications Division
シリーズ名: ESA SP
シリーズ巻号: 419
9.

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9. LARGE AREA LATERAL PHOTOVOLTAIC EFFECTS IN HYDROGENATED AMORPHOUS SILICON FILMS
Okumura, K.
出版情報: Amorphous silicon technology : symposium held April 5-8, 1988, Reno, Nevada, U.S.A..  pp.605-610,  1988.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 118
10.

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10. Comparative Studies of TPD and TPR on the Reaction between Adsorbed NOx Species and CH4 over Cu-ZSM-5
Shimokawabe, M. ; Okumura, K. ; Takezawa, N.
出版情報: Science and technology in catalysis 2002 : proceedings of the Fourth Tokyo Conference on Advanced Catalytic Science and Technology, Tokyo, July 14-19, 2002.  pp.227-230,  2003.  Amsterdam.  Elsevier
シリーズ名: Studies in surface science and catalysis
シリーズ巻号: 145
11.

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11. The Study of Oxide Planarization Using a Grindstone
Hiyama, H. ; Kimura, H. ; Okumura, K. ; Shoji, F. ; Wada, Y. ; Yano, H.
出版情報: Chemical mechanical polishing -- fundamentals and challenges : symposium held April 5-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A..  pp.19-26,  2000.  Warrendale, PA.  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 566
12.

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12. Film Thickness Monitor for CMP Processing
Atsuta, H. ; Hayashi, T. ; Hondo, N. ; Horie, M. ; Kimura, H. ; Okumura, K. ; Tsujimura, M. ; Yano, H. ; Yoshida, M.
出版情報: Chemical mechanical polishing -- fundamentals and challenges : symposium held April 5-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A..  pp.233-246,  2000.  Warrendale, PA.  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 566
13.

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13. Influence of oxygen implant dose on front and back channel characteristics of MOSFET's fabricated in single and double-implant SIMOX substrates
Yoshino, A. ; Ma, T.P. ; Okumura, K.
出版情報: Proceedings of the Sixth International Symposium on Silicon-on-Insulator Technology and Devices.  pp.312-317,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-11
14.

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14. Thermomechanical Properties of Polyurethane Shape-Memory Polymer Foam
Tobushi, H. ; Okumura, K. ; Endo, M. ; Hayashi, S.
出版情報: Shape memory materials and its applications : proceedings of the International Conference on Shape Memory and Superelastic Technologies and Shape Memory Materials (SMST-SMM 2001), held in Kunming, China, September 2 to 6 2001.  pp.577-580,  2002.  Zurich, Switzerland.  Trans Tech Publications
シリーズ名: Materials science forum
シリーズ巻号: 394-395
15.

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15. Cyclic Superelastic Deformation of TiNi Shape-Memory Alloy
Gong, J.M. ; Tobushi, H. ; Takata, K. ; Okumura, K. ; Endo, M.
出版情報: Shape memory materials and its applications : proceedings of the International Conference on Shape Memory and Superelastic Technologies and Shape Memory Materials (SMST-SMM 2001), held in Kunming, China, September 2 to 6 2001.  pp.245-248,  2002.  Zurich, Switzerland.  Trans Tech Publications
シリーズ名: Materials science forum
シリーズ巻号: 394-395
16.

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16. The ISO Point Spread Function and CAM Beam Profiles
Okumura, K.
出版情報: ISO Beyond Point Sources : Studies of Extended Infrared Emission Workshop, ISO Data Centre, Villafrance del Castillo, Madrid, Spain, 14-17 September 1999.  pp.47-52,  2000.  Noordwijk, The Netherlands.  ESA Publications Division
シリーズ名: ESA SP
シリーズ巻号: 455
17.

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17. The ISOCAM Field-of-View Distortion Cor- rection
Ali, B. ; Ott, S. ; Vo, T.D. ; Gastaud, R. ; Okumura, K.
出版情報: The Calibration legac of the ISO mission 5-9 February 2001, ISO Data Centre, Villafranca del Castillo, Madrid, Spain (VILSPA).  pp.319-322,  2003.  Noordwijk, The Netherlands.  ESA Publications Division
シリーズ名: ESA SP
シリーズ巻号: 481
18.

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18. Chemical Control of Noble Metal Catalysis by Main Group Elements
Asakura, K. ; Okumura, K. ; Inoue, T. ; Kubota, T. ; Chun, W-J. ; Iwasawa, Y.
出版情報: Recent advances in catalytic materials : symposium held December 2-4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.99-,  1998.  Warrendale, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 497
19.

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19. Optical Properties of ISOCAM and the ISO Telescope
Okumura, K.
出版情報: The Calibration legac of the ISO mission 5-9 February 2001, ISO Data Centre, Villafranca del Castillo, Madrid, Spain (VILSPA).  pp.211-214,  2003.  Noordwijk, The Netherlands.  ESA Publications Division
シリーズ名: ESA SP
シリーズ巻号: 481
20.

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20. Ethylene biosynthesis in sweet potato root tissue in response to infection by black rot fungus
Hyodo, H. ; Yoshioka, S. ; Okumura, K. ; Imai, Y.
出版情報: Biology and biotechnology of the plant hormone ethylene III.  pp.153-157,  2003.  Amsterdam.  IOS Press
シリーズ名: NATO science series. Series 1, Life and behavioural sciences
シリーズ巻号: 349
21.

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21. ISOCAM Photometry
Blommaert, J.A.D.L. ; Okumura, K. ; Boulanger, F.
出版情報: The Calibration legac of the ISO mission 5-9 February 2001, ISO Data Centre, Villafranca del Castillo, Madrid, Spain (VILSPA).  pp.77-82,  2003.  Noordwijk, The Netherlands.  ESA Publications Division
シリーズ名: ESA SP
シリーズ巻号: 481
22.

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22. Technology mapping technique for throughput enhancement of character projection equipment [6151-36]
Sugihara, M. ; Takata, T. ; Nakamura, K. ; Inanami, R. ; Hayashi, H. ; Kishimoto, K. ; Hasebe, T. ; Kawano, Y. ; Matsunaga, Y. ; Murakami, K. ; Okumura, K.
出版情報: Emerging Lithographic Technologies X.  pp.61510Z-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6151
23.

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23. The Herschel/PACS 2560 bolometers imaging camera [6265-11]
Billot, N. ; Agnese, P. ; Augueres, -L. J. ; Beguin, A. ; Bouere, A. ; Boulade, O. ; Cara, C. ; Cloue, C. ; Doumatrou, E. ; Duband, L. ; Horeau, B. ; Le Mer, I. ; Le Pennec, J. ; Martignac, J. ; Okumura, K.
出版情報: Space Telescopes and Instrumentation I: Optical, Infrared, and Millimeter.  pp.62650D-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6265
24.

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24. Desirable wafer edge flatness for CD control in photolithography
Fujisawa, T. ; Inoue, S. ; Hagiwara, T. ; Kennichi, K. ; Kobayashi, M. ; Okumura, K.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.600-609,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
25.

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25. Desirable reticle flatness from focus deviation standpoint in optical lithography
Inoue, S. ; Itoh, M. ; Asano, M. ; Okumura, K. ; Hagiwara, T. ; Moriya, J.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part One  pp.530-540,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
26.

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26. Maskless lithography: a low-energy electron-beam direct writing system with a common CP aperture and the recent progress
Nakasugi, T. ; Ando, A. ; Inanami, R. ; Sasaki, N. ; Ota, T. ; Nagano, O. ; Yamazaki, Y. ; Sugihara, K. ; Mori, I. ; Miyoshi, M. ; Okumura, K. ; Miura, A.
出版情報: Emerging Lithographic Technologies VII.  2  pp.1051-1058,  2003.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5037
27.

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27. Understanding and modeling glitch effects in ISOCAM and other future space telescopes
Claret, A.J. ; Okumura, K.
出版情報: IR Space Telescopes and Instruments.  Part Two  pp.824-835,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4850
28.

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28. Analysis of wafer flatness for CD control in photolithography
Fujisawa, T. ; Asano, M. ; Sutani, T. ; Inoue, S. ; Yamada, H. ; Sugamoto, J. ; Okumura, K. ; Hagiwara, T. ; Oka, S.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part Two  pp.802-809,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
29.

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29. New concept of specification for mask flatness
Itoh, M. ; Inoue, S. ; Okumura, K. ; Hagiwara, T. ; Moriya, J.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX.  pp.43-53,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4754