1.

国際会議録
国際会議録
1. Desirable wafer edge flatness for CD control in photolithography
Fujisawa, T. ; Inoue, S. ; Hagiwara, T. ; Kennichi, K. ; Kobayashi, M. ; Okumura, K.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.600-609,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
2.

国際会議録
国際会議録
2. Desirable reticle flatness from focus deviation standpoint in optical lithography
Inoue, S. ; Itoh, M. ; Asano, M. ; Okumura, K. ; Hagiwara, T. ; Moriya, J.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part One  pp.530-540,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
3.

国際会議録
国際会議録
3. Analysis of wafer flatness for CD control in photolithography
Fujisawa, T. ; Asano, M. ; Sutani, T. ; Inoue, S. ; Yamada, H. ; Sugamoto, J. ; Okumura, K. ; Hagiwara, T. ; Oka, S.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part Two  pp.802-809,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
4.

国際会議録
国際会議録
4. New concept of specification for mask flatness
Itoh, M. ; Inoue, S. ; Okumura, K. ; Hagiwara, T. ; Moriya, J.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX.  pp.43-53,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4754