1.
国際会議録
Fujisawa, T. ; Inoue, S. ; Hagiwara, T. ; Kennichi, K. ; Kobayashi, M. ; Okumura, K.
出版情報:
Optical Microlithography XVI . Part One pp.600-609, 2003. Bellingham, Wash.. SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名:
Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号:
5040
2.
国際会議録
Inoue, S. ; Itoh, M. ; Asano, M. ; Okumura, K. ; Hagiwara, T. ; Moriya, J.
出版情報:
Optical Microlithography XV . Part One pp.530-540, 2002. Bellingham, Wash.. SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名:
Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号:
4691
3.
国際会議録
Fujisawa, T. ; Asano, M. ; Sutani, T. ; Inoue, S. ; Yamada, H. ; Sugamoto, J. ; Okumura, K. ; Hagiwara, T. ; Oka, S.
出版情報:
Optical Microlithography XV . Part Two pp.802-809, 2002. Bellingham, Wash.. SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名:
Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号:
4691
4.
国際会議録
Itoh, M. ; Inoue, S. ; Okumura, K. ; Hagiwara, T. ; Moriya, J.
出版情報:
Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX . pp.43-53, 2002. Bellingham, Wash.. SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名:
Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号:
4754