1.

国際会議録
国際会議録
1. A STUDY OF SURFACE AND SUBSURFACE PROPERTIES OF Si(100) AFTER HYDROGEN ION-BEAM EXPOSURE
Liu, H. X. ; Schneider, T. P. ; Montgomery, J. ; Chen, Y. L. ; Buczkowski, A. ; Shimura, F. ; Nemanich, R. J. ; Maher, D. M. ; Korzec, D. ; Engemann, J.
出版情報: Surface chemical cleaning and passivation for semiconductor processing.  pp.231-,  1993.  Pittsburgh, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 315
2.

国際会議録
国際会議録
2. PLASMA SURFACE INTERACTIONS AND SURFACE PRORERTIES FOR REMOTE H-PLASMA CLEANING OF Si(100)
Schneider, T. P. ; Cho, J. ; Chen, Y. L. ; Maher, D. M. ; Nemanich, R. J.
出版情報: Surface chemical cleaning and passivation for semiconductor processing.  pp.197-,  1993.  Pittsburgh, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 315