1.

国際会議録
国際会議録
1. μc SILICON THIN FILMS DEPOSITED BY REMOTE PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITORS PROCESS
Wang, C ; Parsons, G. N. ; Kim, S. S. ; Buehler, E. C. ; Nemanich, R. J. ; Locuvsky, G.
出版情報: Amorphous silicon technology, 1990 : symposium held April 17-20, 1990, San Francisco, California, U.S.A..  pp.535-540,  1990.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 192
2.

国際会議録
国際会議録
2. Large Crystallite Polysilicon Deposited Using Pulsed-Gas PECVD at Temperature Less than 250°C
Srinivasan, E. ; Ellis, S. J. ; Nemanich, R. J. ; Parsons, G. N.
出版情報: Advances in microcrystalline and nanocrystalline semiconductors, 1996 : symposium held December 2-6, 1996, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.989-,  1997.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 452